Group: Atomic model / Derived calculations ...Atomic model / Derived calculations / Non-polymer description / Other / Structure summary / Version format compliance
タイプ: MARRESEARCH SX-165 / 検出器: CCD / 日付: 2009年5月17日 / 詳細: SECOND CRYSTAL SAGITALLY BENT
放射
モノクロメーター: FIRST CRYSTAL FLAT AND N2 COOLED / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979609 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→50 Å / Num. obs: 219109 / % possible obs: 99.5 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 6.6 % / Biso Wilson estimate: 29.4 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 13.4
反射 シェル
解像度: 1.9→2.1 Å / 冗長度: 6.3 % / Rmerge(I) obs: 0.41 / Mean I/σ(I) obs: 4.5 / % possible all: 99.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0070
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.9→39.77 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.95 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.917 / SU B: 4.452 / SU ML: 0.129 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.171 / ESU R Free: 0.162 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25056
1177
3.5 %
RANDOM
Rwork
0.19693
-
-
-
obs
0.19886
32106
99.49 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK