プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.25→29 Å / Num. obs: 94021 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 4 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 15.6
反射 シェル
解像度: 1.25→1.28 Å / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.52 / Mean I/σ(I) obs: 2.8 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0070
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.25→29.1 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.974 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.968 / SU B: 1.29 / SU ML: 0.026 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.045 / ESU R Free: 0.041 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES RESIDUAL ONLY. THE C-TERMINUS IS DISORDERED, BUT OXT IS USED TO MODEL LAST ORDERED ATOM
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.165
4935
5 %
RANDOM
Rwork
0.149
-
-
-
obs
0.15
94021
99.7 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK