プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9699 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.35→70.36 Å / Num. obs: 704196 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 1.5 / 冗長度: 19.6 % / Rmerge(I) obs: 0.12 / Net I/σ(I): 22.1
反射 シェル
解像度: 2.35→2.48 Å / 冗長度: 7.7 % / Rmerge(I) obs: 0.36 / Mean I/σ(I) obs: 3.8 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0070
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.35→141.42 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.909 / SU B: 17.367 / SU ML: 0.188 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.446 / ESU R Free: 0.256 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES RESIDUAL ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.235
1797
5 %
RANDOM
Rwork
0.17
-
-
-
obs
0.174
34148
99.9 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK