モノクロメーター: SI(111)MONOCHROMATOR / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97154 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.4→56 Å / Num. obs: 38608 / % possible obs: 99.4 % / 冗長度: 3.7 % / Biso Wilson estimate: 13.6 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 13.9
反射 シェル
解像度: 1.4→1.44 Å / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.53 / Mean I/σ(I) obs: 2.8 / % possible all: 96.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.4.0066
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELX
位相決定
SHARP
位相決定
autoSHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.4→56.34 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.976 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.96 / SU B: 2.357 / SU ML: 0.042 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.064 / ESU R Free: 0.062 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.185
1916
5 %
RANDOM
Rwork
0.135
-
-
-
obs
0.138
36445
99.3 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK