プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.931 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.54→50 Å / Num. obs: 71188 / % possible obs: 96 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 23.15 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 37
反射 シェル
解像度: 1.54→1.63 Å / 冗長度: 21.2 % / Rmerge(I) obs: 0.5 / Mean I/σ(I) obs: 7.1 / % possible all: 88.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多重同系置換・異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.54→75.81 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.963 / SU B: 1.125 / SU ML: 0.042 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.074 / ESU R Free: 0.071 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.183
1914
5 %
RANDOM
Rwork
0.165
-
-
-
obs
0.166
36196
95.9 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK