プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.931 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.74→20 Å / Num. obs: 18030 / % possible obs: 99.4 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 8.9 % / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 18.9
反射 シェル
解像度: 2.74→2.89 Å / 冗長度: 9.1 % / Rmerge(I) obs: 0.59 / Mean I/σ(I) obs: 3.3 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHARP
位相決定
SHELXD
位相決定
REFMAC
5.2.0019
精密化
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.74→19.57 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.906 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.897 / SU B: 36.644 / SU ML: 0.342 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.415 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.287
914
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.257
-
-
-
obs
0.259
17085
99.3 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK