モノクロメーター: GRAPHITE / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.67→21.07 Å / Num. obs: 50379 / % possible obs: 99.1 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 12.4 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 9.3
反射 シェル
解像度: 1.67→1.76 Å / 冗長度: 11.5 % / Rmerge(I) obs: 0.34 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / % possible all: 96.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.1.24
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELX
位相決定
SHARP
位相決定
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.67→76.7 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.95 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.94 / SU B: 1.766 / SU ML: 0.061 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.101 / ESU R Free: 0.098 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. RESIDUES FROM 147 TO 150 AND FROM 169 TO 177, ARE DISORDERED. THEY DO NOT APPEAR IN THE MODEL DISORDERED REGIONS FROM RESIDUES 147 TO 150 ...詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. RESIDUES FROM 147 TO 150 AND FROM 169 TO 177, ARE DISORDERED. THEY DO NOT APPEAR IN THE MODEL DISORDERED REGIONS FROM RESIDUES 147 TO 150 AND FROM 169 TO 177. THEY DO NOT APPEAR IN THE MODEL.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.229
2551
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.203
-
-
-
obs
0.204
47577
99.1 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK