プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9793 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.5→52.85 Å / Num. obs: 107873 / % possible obs: 99.5 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 8.1 % / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 30.1
反射 シェル
解像度: 1.5→1.58 Å / 冗長度: 8.2 % / Rmerge(I) obs: 0.38 / Mean I/σ(I) obs: 5.9 / % possible all: 99.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXCD
位相決定
SHELXE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.5→73.13 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.964 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.948 / SU B: 3.403 / SU ML: 0.058 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.098 / ESU R Free: 0.082 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.219
5376
5 %
RANDOM
Rwork
0.18
-
-
-
obs
0.182
102206
99.2 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK