タイプ: MAR CCD 165 mm / 検出器: CCD / 日付: 2004年7月16日 / 詳細: mirrors
放射
モノクロメーター: silicon 111 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9794 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.55→55 Å / Num. obs: 21759 / % possible obs: 96.1 % / 冗長度: 11.8 % / Rmerge(I) obs: 0.087 / Net I/σ(I): 6.2
反射 シェル
解像度: 1.55→1.64 Å / Rmerge(I) obs: 0.115 / Mean I/σ(I) obs: 5.3 / Num. unique all: 2991 / % possible all: 93.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0005
精密化
Xnemo
データ収集
FIPBM30A
データ収集
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
AMoRE
位相決定
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 1.56→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.941 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.93 / SU B: 1.25 / SU ML: 0.047 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.092 / ESU R Free: 0.089 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20009
1118
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.17193
-
-
-
obs
0.17336
20572
96.03 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK