プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.541 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 5 % / Av σ(I) over netI: 17.5 / 数: 102082 / Rmerge(I) obs: 0.056 / Χ2: 1.26 / D res high: 1.65 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 20295 / % possible obs: 99.1
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
3.55
50
99.7
1
0.034
0.78
5
2.82
3.55
99.9
1
0.038
0.837
5.2
2.46
2.82
99.9
1
0.062
1.184
5.2
2.24
2.46
99.8
1
0.081
1.265
5.2
2.08
2.24
99.8
1
0.106
1.194
5.1
1.96
2.08
99.4
1
0.149
1.344
5.1
1.86
1.96
98.9
1
0.23
1.486
5
1.78
1.86
98.8
1
0.312
1.51
4.9
1.71
1.78
98
1
0.444
1.568
4.9
1.65
1.71
96.9
1
0.578
1.558
4.7
反射
解像度: 1.65→50 Å / Num. obs: 20360 / % possible obs: 99.1 % / 冗長度: 5 % / Rmerge(I) obs: 0.056 / Χ2: 1.305 / Net I/σ(I): 17.4
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
1.65-1.71
4.7
0.586
1981
1.592
1
96.9
1.71-1.78
4.9
0.452
1976
1.614
1
98
1.78-1.86
4.9
0.315
2015
1.597
1
98.8
1.86-1.96
5
0.234
1988
1.585
1
98.9
1.96-2.08
5.1
0.151
2021
1.351
1
99.4
2.08-2.24
5.1
0.106
2026
1.197
1
99.8
2.24-2.46
5.2
0.081
2056
1.284
1
99.8
2.46-2.82
5.2
0.062
2048
1.185
1
99.9
2.82-3.55
5.2
0.039
2074
0.881
1
99.9
3.55-50
5
0.035
2175
0.892
1
99.7
-
位相決定
位相決定
手法: 多波長異常分散
Phasing MAD set site
ID
Cartn x (Å)
Cartn y (Å)
Cartn z (Å)
Atom type symbol
B iso
Occupancy
1
4.67
44.909
18.141
S
12.86
0.94
2
15.01
26.038
27.393
S
30
0.63
3
4.366
40.323
14.079
S
30.41
1.09
4
7.041
28.758
32.599
S
28.15
0.74
5
6.561
42.979
17.575
S
29.74
1.2
6
6.257
47.058
18.721
S
25.67
0.93
7
3.277
44.292
19.764
S
25.53
1.32
8
4.033
45.109
16.113
S
11.67
0.67
Phasing MR
最高解像度
最低解像度
Rotation
1.91 Å
27.32 Å
Translation
1.91 Å
27.32 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
MOLREP
位相決定
SHARP
位相決定
SOLOMON
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
2
データ抽出
CrystalClear
データ収集
HKL-2000
データ削減
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.65→27.32 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / SU B: 1.176 / SU ML: 0.041 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.064 / ESU R Free: 0.065 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.195
1044
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.177
-
-
-
obs
0.177
20344
99.13 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK