プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.91 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.9→20 Å / Num. obs: 10330 / % possible obs: 98.9 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 6.43 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 18.66
反射 シェル
解像度: 2.9→3.07 Å / 冗長度: 6.09 % / Rmerge(I) obs: 0.38 / Mean I/σ(I) obs: 5.45 / % possible all: 96.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0054
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
autoSHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.9→60.08 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.921 / SU B: 25.93 / SU ML: 0.205 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.37 / ESU R Free: 0.269 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES ARE RESIDUAL ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.227
216
4.6 %
RANDOM
Rwork
0.187
-
-
-
obs
0.189
4510
99.6 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK