ジャーナル: J.Am.Chem.Soc. / 年: 2007 タイトル: The Structures and Electronic Configuration of Compound I Intermediates of Helicobacter Pylori and Penicillium Vitale Catalases Determined by X-Ray Crystallography and Qm/Mm Density ...タイトル: The Structures and Electronic Configuration of Compound I Intermediates of Helicobacter Pylori and Penicillium Vitale Catalases Determined by X-Ray Crystallography and Qm/Mm Density Functional Theory Calculations. 著者: Alfonso-Prieto, M. / Borovik, A. / Carpena, X. / Murshudov, G. / Melik-Adamyan, W. / Fita, I. / Rovira, C. / Loewen, P.C.
履歴
登録
2006年6月2日
登録サイト: PDBE / 処理サイト: PDBE
改定 1.0
2006年7月10日
Provider: repository / タイプ: Initial release
改定 1.1
2016年12月28日
Group: Database references / Derived calculations ...Database references / Derived calculations / Non-polymer description / Other / Structure summary / Version format compliance
SHEET DETERMINATION METHOD: DSSP THE SHEETS PRESENTED AS "AB" IN EACH CHAIN ON SHEET RECORDS BELOW ... SHEET DETERMINATION METHOD: DSSP THE SHEETS PRESENTED AS "AB" IN EACH CHAIN ON SHEET RECORDS BELOW IS ACTUALLY AN 10-STRANDED BARREL THIS IS REPRESENTED BY A 11-STRANDED SHEET IN WHICH THE FIRST AND LAST STRANDS ARE IDENTICAL. THE SHEETS PRESENTED AS "EA" IN EACH CHAIN ON SHEET RECORDS BELOW IS ACTUALLY AN 10-STRANDED BARREL THIS IS REPRESENTED BY A 11-STRANDED SHEET IN WHICH THE FIRST AND LAST STRANDS ARE IDENTICAL.
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.71→120 Å / Num. obs: 156337 / % possible obs: 99 % / 冗長度: 5 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 5.5
反射 シェル
解像度: 1.71→1.73 Å / 冗長度: 3 % / Rmerge(I) obs: 0.29 / Mean I/σ(I) obs: 3.5 / % possible all: 64.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.3.0002
精密化
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: OTHER / 解像度: 1.71→119.52 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.975 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.967 / SU B: 1.377 / SU ML: 0.046 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.078 / ESU R Free: 0.076 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.154
8285
5 %
RANDOM
Rwork
0.129
-
-
-
obs
0.131
156337
98.9 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK