ジャーナル: TO BE PUBLISHED タイトル: Crystal structures of an activated YycF homologue, the essential response regulator from S.pneumoniae in complex with BeF3 and the effect of pH on BeF3 binding, possible phosphate in the active site. 著者: Riboldi-Tunnicliffe, A. / Isaacs, N.W. / Mitchell, T.J.
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
相対比: 1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0005
精密化
MOSFLM
データ削減
CCP4
(SCALA)
データスケーリング
EPMR
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.82→58.32 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.944 / SU B: 5.986 / SU ML: 0.082 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.195 / ESU R Free: 0.114 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2059
611
5 %
RANDOM
Rwork
0.15639
-
-
-
all
0.159
-
-
-
obs
0.15876
11565
99.39 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK
原子変位パラメータ
Biso mean: 23.307 Å2
Baniso -1
Baniso -2
Baniso -3
1-
2.05 Å2
0 Å2
0 Å2
2-
-
-1.72 Å2
0 Å2
3-
-
-
-0.33 Å2
精密化ステップ
サイクル: LAST / 解像度: 1.82→58.32 Å
タンパク質
核酸
リガンド
溶媒
全体
原子数
970
0
5
69
1044
拘束条件
Refine-ID
タイプ
Dev ideal
Dev ideal target
数
X-RAY DIFFRACTION
r_bond_refined_d
0.02
0.022
978
X-RAY DIFFRACTION
r_angle_refined_deg
1.818
2.01
1326
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_1_deg
5.601
5
126
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_2_deg
39.126
25.854
41
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_3_deg
15.279
15
193
X-RAY DIFFRACTION
r_dihedral_angle_4_deg
14.139
15
5
X-RAY DIFFRACTION
r_chiral_restr
0.17
0.2
158
X-RAY DIFFRACTION
r_gen_planes_refined
0.007
0.02
716
X-RAY DIFFRACTION
r_nbd_refined
0.225
0.2
474
X-RAY DIFFRACTION
r_nbtor_refined
0.303
0.2
699
X-RAY DIFFRACTION
r_xyhbond_nbd_refined
0.149
0.2
73
X-RAY DIFFRACTION
r_metal_ion_refined
0.124
0.2
1
X-RAY DIFFRACTION
r_symmetry_vdw_refined
0.255
0.2
31
X-RAY DIFFRACTION
r_symmetry_hbond_refined
0.483
0.2
7
X-RAY DIFFRACTION
r_mcbond_it
1.71
1.5
636
X-RAY DIFFRACTION
r_mcangle_it
2.582
2
1006
X-RAY DIFFRACTION
r_scbond_it
4.606
3
381
X-RAY DIFFRACTION
r_scangle_it
6.65
4.5
320
LS精密化 シェル
解像度: 1.816→1.863 Å / Total num. of bins used: 20
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.271
49
-
Rwork
0.198
792
-
obs
-
-
95.35 %
精密化 TLS
手法: refined / Origin x: 14.026 Å / Origin y: 35.2 Å / Origin z: 5.658 Å