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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 1l2c | ||||||
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タイトル | MutM (Fpg)-DNA Estranged Thymine Mismatch Recognition Complex | ||||||
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![]() | HYDROLASE/DNA / DNA Repair / DNA glycosylase / zinc finger / HYDROLASE-DNA COMPLEX | ||||||
機能・相同性 | ![]() DNA-formamidopyrimidine glycosylase / 8-oxo-7,8-dihydroguanine DNA N-glycosylase activity / class I DNA-(apurinic or apyrimidinic site) endonuclease activity / DNA-(apurinic or apyrimidinic site) lyase / base-excision repair / damaged DNA binding / zinc ion binding 類似検索 - 分子機能 | ||||||
生物種 | ![]() ![]() | ||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | ||||||
![]() | Fromme, J.C. / Verdine, G.L. | ||||||
![]() | ![]() タイトル: Structural insights into lesion recognition and repair by the bacterial 8-oxoguanine DNA glycosylase MutM. 著者: Fromme, J.C. / Verdine, G.L. | ||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 81.8 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 56.9 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 439.1 KB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 441.3 KB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 13.7 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 19.2 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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要素
#1: DNA鎖 | 分子量: 4963.228 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 合成 |
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#2: DNA鎖 | 分子量: 4719.046 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 合成 |
#3: タンパク質 | 分子量: 30739.510 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 組換発現 由来: (組換発現) ![]() ![]() 遺伝子: mutM / 発現宿主: ![]() ![]() |
#4: 化合物 | ChemComp-ZN / |
#5: 水 | ChemComp-HOH / |
-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.72 Å3/Da / 溶媒含有率: 60.6 % | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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結晶化 | 温度: 295 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 7.5 詳細: PEG 8000, magnesium acetate, cacodylate, pH 7.5, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 295K | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 |
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結晶化 | *PLUS pH: 7.4 / 手法: 蒸気拡散法 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: ADSC QUANTUM 210 / 検出器: CCD / 日付: 2002年1月26日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.9 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 2.2→50 Å / Num. all: 23431 / Num. obs: 23023 / % possible obs: 98.3 % / Observed criterion σ(F): 1 / Observed criterion σ(I): 1 / 冗長度: 4.5 % / Rmerge(I) obs: 0.135 / Net I/σ(I): 10.9 |
反射 シェル | 解像度: 2.2→2.28 Å / 冗長度: 3.9 % / Rmerge(I) obs: 0.469 / Mean I/σ(I) obs: 2.9 / % possible all: 94.6 |
反射 | *PLUS 最低解像度: 50 Å / Num. obs: 22900 / Rmerge(I) obs: 0.135 |
反射 シェル | *PLUS % possible obs: 94.6 % / Rmerge(I) obs: 0.469 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]() 開始モデル: 1L1T 解像度: 2.2→50 Å / Data cutoff high rms absF: 10000 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 2 / 立体化学のターゲット値: ENGH & HUBER
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原子変位パラメータ | Biso mean: 43 Å2 | |||||||||||||||||||||||||
Refine analyze |
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 2.2→50 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル | 解像度: 2.2→2.28 Å / Total num. of bins used: 10
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精密化 | *PLUS % reflection Rfree: 10 % / Rfactor obs: 0.213 / Rfactor Rfree: 0.247 / Rfactor Rwork: 0.213 | |||||||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | |||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS | |||||||||||||||||||||||||
拘束条件 | *PLUS
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LS精密化 シェル | *PLUS Rfactor Rfree: 0.286 / % reflection Rfree: 10 % / Rfactor Rwork: 0.214 / Rfactor obs: 0.214 |