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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 1kxk | ||||||
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タイトル | Crystal Structure of a RNA Molecule Containing Domain 5 and 6 of the Yeast ai5g Group II Self-splicing Intron | ||||||
![]() | ai5g group II Self-splicing intron | ||||||
![]() | RNA / double helix / tetraloop / tetraloop receptor / two-nucleotide bulge | ||||||
機能・相同性 | RNA / RNA (> 10)![]() | ||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | ||||||
![]() | Zhang, L. / Doudna, J.A. | ||||||
![]() | ![]() タイトル: Structural insights into group II intron catalysis and branch-site selection. 著者: Zhang, L. / Doudna, J.A. | ||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 46.4 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 34.2 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
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-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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要素
#1: RNA鎖 | 分子量: 22620.477 Da / 分子数: 1 / 断片: domain 5 and 6 / 由来タイプ: 合成 詳細: THE SEQUENCE IS FROM Saccharomyces cerevisiae (yeast). in vitro transcription. |
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#2: 化合物 |
-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 6.23 Å3/Da / 溶媒含有率: 80.26 % | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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結晶化 | 温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 7 詳細: HEPES-KOH, magnesium chloride, ammonium sulfate, spermine, pH 7.0, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 298K | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 |
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結晶化 | *PLUS 温度: 25 ℃ | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
回折 |
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放射光源 |
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検出器 |
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放射 |
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放射波長 |
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反射 | 解像度: 3→30 Å / Num. all: 12289 / Num. obs: 10014 / % possible obs: 81.5 % / Observed criterion σ(F): 2 / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 15.5 % / Rsym value: 0.054 / Net I/σ(I): 23.4 | ||||||||||||||||||
反射 シェル | 解像度: 3→3.11 Å / Mean I/σ(I) obs: 3 / Rsym value: 0.43 / % possible all: 51.7 | ||||||||||||||||||
反射 | *PLUS 最低解像度: 30 Å / % possible obs: 85.8 % / Rmerge(I) obs: 0.054 | ||||||||||||||||||
反射 シェル | *PLUS % possible obs: 51.7 % / Rmerge(I) obs: 0.43 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]()
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 3→30 Å
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LS精密化 シェル | 解像度: 3→3.11 Å
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精密化 | *PLUS 最低解像度: 30 Å | |||||||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | |||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS | |||||||||||||||||||||||||
拘束条件 | *PLUS
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LS精密化 シェル | *PLUS Rfactor obs: 0.4186 |