ソフトウェア | 名称 | バージョン | 分類 | NB |
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CNS | 1 | 精密化 | | DENZO | | データ削減 | | SCALEPACK | | データスケーリング | | SOLVE | | 位相決定 | | SHARP | | 位相決定 | |
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精密化 | 構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.83→20 Å / Rfactor Rfree error: 0.006 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / σ(I): 0 / 立体化学のターゲット値: Engh & Huber
| Rfactor | 反射数 | %反射 | Selection details |
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Rfree | 0.214 | 1306 | 4.9 % | Random 5% of data |
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Rwork | 0.191 | - | - | - |
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all | 0.193 | 26457 | - | - |
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obs | 0.193 | 26447 | 100 % | - |
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溶媒の処理 | 溶媒モデル: CNS bulk solvent model used / Bsol: 52.0432 Å2 / ksol: 0.336574 e/Å3 |
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原子変位パラメータ | Biso max: 79.96 Å2 / Biso mean: 28.05 Å2 / Biso min: 11.59 Å2
| Baniso -1 | Baniso -2 | Baniso -3 |
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1- | 2.93 Å2 | 1.98 Å2 | 0 Å2 |
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2- | - | 2.93 Å2 | 0 Å2 |
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3- | - | - | -5.85 Å2 |
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Refine Biso | クラス | Refine-ID | Treatment |
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polymerX-RAY DIFFRACTION | isotropicwaterX-RAY DIFFRACTION | isotropicnonpolymerX-RAY DIFFRACTION | isotropic | | | | | |
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Refine analyze | | Free | Obs |
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Luzzati coordinate error | 0.22 Å | 0.19 Å |
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Luzzati d res low | - | 5 Å |
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Luzzati sigma a | 0.18 Å | 0.14 Å |
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Luzzati d res high | - | 1.83 |
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.83→20 Å
| タンパク質 | 核酸 | リガンド | 溶媒 | 全体 |
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原子数 | 2262 | 0 | 15 | 204 | 2481 |
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拘束条件 | Refine-ID | タイプ | Dev ideal | Dev ideal target |
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X-RAY DIFFRACTION | x_bond_d0.005 | | X-RAY DIFFRACTION | x_angle_deg1.2 | | X-RAY DIFFRACTION | x_torsion_deg25.9 | | X-RAY DIFFRACTION | x_torsion_impr_deg0.69 | | X-RAY DIFFRACTION | x_mcbond_it2.48 | 3 | X-RAY DIFFRACTION | x_mcangle_it3.48 | 4 | X-RAY DIFFRACTION | x_scbond_it3.74 | 4 | X-RAY DIFFRACTION | x_scangle_it4.78 | 5 | | | | | | | | |
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LS精密化 シェル | Refine-ID: X-RAY DIFFRACTION / Total num. of bins used: 8 解像度 (Å) | Rfactor Rfree | Num. reflection Rfree | % reflection Rfree (%) | Rfactor Rwork | Num. reflection Rwork | Rfactor Rfree error | Num. reflection all | Num. reflection obs | % reflection obs (%) |
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1.83-1.91 | 0.262 | 145 | 4.4 | 0.247 | 3117 | 0.022 | 3272 | 3260 | 99.8 | 1.91-2.01 | 0.211 | 140 | 4.2 | 0.212 | 3156 | 0.018 | 3303 | 3296 | 99.8 | 2.01-2.14 | 0.207 | 169 | 5.1 | 0.206 | 3150 | 0.016 | 3327 | 3319 | 99.8 | 2.14-2.3 | 0.206 | 178 | 5.4 | 0.204 | 3142 | 0.015 | 3325 | 3320 | 99.8 | 2.3-2.54 | 0.195 | 148 | 4.5 | 0.194 | 3133 | 0.016 | 3284 | 3281 | 99.9 | 2.54-2.9 | 0.19 | 173 | 5.2 | 0.189 | 3157 | 0.014 | 3331 | 3330 | 100 | 2.9-3.65 | 0.188 | 193 | 5.8 | 0.185 | 3124 | 0.014 | 3318 | 3317 | 100 | 3.65-19.99 | 0.177 | 160 | 4.8 | 0.178 | 3164 | 0.014 | 3324 | 3324 | 100 |
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ソフトウェア | *PLUS 名称: CNS / バージョン: 1 / 分類: refinement |
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精密化 | *PLUS σ(F): 0 / % reflection Rfree: 4.9 % / Rfactor obs: 0.191 |
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溶媒の処理 | *PLUS |
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原子変位パラメータ | *PLUS |
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拘束条件 | *PLUS Refine-ID | タイプ | Dev ideal | Dev ideal target |
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X-RAY DIFFRACTION | c_bond_d | | X-RAY DIFFRACTION | c_angle_deg1.2 | | X-RAY DIFFRACTION | c_mcbond_it | 3 | X-RAY DIFFRACTION | c_scbond_it | 4 | X-RAY DIFFRACTION | c_mcangle_it | 4 | X-RAY DIFFRACTION | c_scangle_it | 5 | | | | | | |
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LS精密化 シェル | *PLUS Rfactor Rfree: 0.262 / % reflection Rfree: 4.4 % / Rfactor Rwork: 0.247 |
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