プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.976 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.78→67.88 Å / Num. obs: 40262 / % possible obs: 99 % / 冗長度: 3.6 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 22.9
反射 シェル
解像度: 1.78→1.81 Å / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.27 / Mean I/σ(I) obs: 3.5 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.78→67.88 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / SU B: 4.557 / SU ML: 0.067 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.115 / ESU R Free: 0.106 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19751
1614
4 %
RANDOM
Rwork
0.17233
-
-
-
obs
0.17333
38647
98.32 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK