プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.933 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→48.9 Å / Num. obs: 75009 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.69 % / Biso Wilson estimate: 21.5 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 8.53
反射 シェル
解像度: 1.9→2 Å / 冗長度: 3.72 % / Rmerge(I) obs: 0.36 / Mean I/σ(I) obs: 2.16 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0096
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.9→40 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.95 / SU B: 5.105 / SU ML: 0.069 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.114 / ESU R Free: 0.108 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. ATOM RECORD CONTAINS SUM OF TLS AND RESIDUAL B FACTORS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18985
3759
5 %
RANDOM
Rwork
0.16294
-
-
-
obs
0.16426
70962
99.69 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK