解像度: 2.5→30 Å / Num. obs: 45644 / % possible obs: 96.3 % / Observed criterion σ(I): 3 / 冗長度: 4.3 % / Rsym value: 0.052 / Net I/σ(I): 21.5
反射 シェル
解像度: 2.5→2.56 Å / 冗長度: 3.8 % / Rmerge(I) obs: 0.426 / Mean I/σ(I) obs: 3.01 / Rsym value: 0.426 / % possible all: 88.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHELXS
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 2.5→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.944 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.914 / SU B: 14.373 / SU ML: 0.147 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.216 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24681
2301
5 %
RANDOM
Rwork
0.2061
-
-
-
obs
0.20816
43319
96.31 %
-
all
-
45644
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK