モノクロメーター: Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.99→45 Å / Num. all: 27808 / Num. obs: 27614 / % possible obs: 99.3 %
反射 シェル
解像度: 2.99→3.15 Å / 冗長度: 8.08 % / Mean I/σ(I) obs: 2.69 / Num. unique all: 3778 / Rsym value: 0.928 / % possible all: 95.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SERGUI
データ収集
PHENIX
モデル構築
REFMAC
5.6.0091
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.99→43.22 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.897 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.874 / SU B: 20.51 / SU ML: 0.385 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.455 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.29096
1424
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.25504
-
-
-
obs
0.25691
26190
99.3 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK