モノクロメーター: Si (111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.977 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3.1→45 Å / Num. all: 45944 / Num. obs: 45646 / % possible obs: 99.4 %
反射 シェル
解像度: 3.1→3.27 Å / 冗長度: 5.04 % / Rsym value: 0.84 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
BSS
データ収集
PHENIX
モデル構築
REFMAC
5.6.0091
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 3.1→44.46 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.891 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.868 / SU B: 19.61 / SU ML: 0.353 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.492 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.28633
1254
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.24966
-
-
-
obs
0.25155
23242
99.67 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK