A: Component A of hexaprenyl diphosphate synthase B: Component B of hexaprenyl diphosphate synthase C: Component A of hexaprenyl diphosphate synthase D: Component B of hexaprenyl diphosphate synthase ヘテロ分子
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.6→133.63 Å / Num. obs: 34831 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 15.9 % / Rsym value: 0.099 / Net I/σ(I): 27.5
反射 シェル
解像度: 2.6→2.69 Å / 冗長度: 13.3 % / Mean I/σ(I) obs: 9.1 / Rsym value: 0.342 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
REFMAC
5.5.0066
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
REFMAC
5.5.0066
位相決定
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 2.61→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.918 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.876 / SU B: 11.944 / SU ML: 0.256 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.358 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.28152
1744
5 %
RANDOM
Rwork
0.23823
-
-
-
obs
0.24039
32915
99.56 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK