モノクロメーター: Si 111 / プロトコル: MAD / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
1
1
2
1.1398
1
3
1.14022
1
4
1.04
1
反射
解像度: 2.64→50 Å / Num. obs: 48278 / % possible obs: 93.6 % / 冗長度: 8.8 % / Biso Wilson estimate: 52.8 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 18.9
反射 シェル
解像度: 2.64→2.74 Å / 冗長度: 4.4 % / Rmerge(I) obs: 0.338 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / % possible all: 68.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0005
精密化
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 2.64→49.63 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.929 / SU B: 9.606 / SU ML: 0.204 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.31 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22254
2450
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18271
-
-
-
obs
0.18474
45809
93.59 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK