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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 9gv4 | |||||||||
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タイトル | TBA G-quadruplex binding nanobody (free form) | |||||||||
![]() | Nanobody | |||||||||
![]() | IMMUNE SYSTEM / Nanobody / G-quadruplex / TBA / thrombin / DNA | |||||||||
生物種 | ![]() ![]() | |||||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | |||||||||
![]() | Pevec, M. / Hadzi, S. | |||||||||
資金援助 | ![]()
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![]() | ![]() タイトル: Structural basis of G-quadruplex recognition by a camelid antibody fragment. 著者: Pevec, M. / Medved, T. / Kovacic, M. / Zerjav, N. / Imperl, J. / Plavec, J. / Lah, J. / Loris, R. / Hadzi, S. | |||||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 43.4 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 28 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
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-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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Components on special symmetry positions |
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要素
#1: 抗体 | 分子量: 13424.901 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 組換発現 / 由来: (組換発現) ![]() ![]() ![]() ![]() | ||||||||
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#2: 化合物 | ChemComp-EDO / | ||||||||
#3: 化合物 | ChemComp-SO4 / #4: 化合物 | #5: 水 | ChemComp-HOH / | 研究の焦点であるリガンドがあるか | N | Has protein modification | Y | |
-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 1.67 Å3/Da / 溶媒含有率: 26.5 % |
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結晶化 | 温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 7.25 詳細: 1.6 M Ammonium sulphate 0.1 M HEPES, pH=7.25 cryoprotection=25% glycerol |
-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K / Serial crystal experiment: N |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: DECTRIS EIGER X 16M / 検出器: PIXEL / 日付: 2021年9月30日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.978565 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.53→48.721 Å / Num. obs: 15415 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 6.5 % / CC1/2: 0.999 / Rmerge(I) obs: 0.068 / Rpim(I) all: 0.029 / Rrim(I) all: 0.074 / Χ2: 0.96 / Net I/σ(I): 16.1 |
反射 シェル | 解像度: 1.53→1.57 Å / % possible obs: 98.1 % / 冗長度: 6.4 % / Rmerge(I) obs: 0.441 / Num. measured all: 7056 / Num. unique obs: 1099 / CC1/2: 0.931 / Rpim(I) all: 0.188 / Rrim(I) all: 0.48 / Χ2: 0.93 / Net I/σ(I) obs: 3.2 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]()
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溶媒の処理 | 減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.11 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.534→48.721 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル |
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