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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 9g7p | ||||||
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タイトル | Crystal structure of Shewanella putrefaciens PE-like toxin, Spx | ||||||
![]() | Shewanella putrefaciens PE-like toxin catalytically inactive mutant | ||||||
![]() | TOXIN / Mono-ADP Ribosylating Toxin / exotoxin A / bacterial toxin | ||||||
生物種 | ![]() | ||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | ||||||
![]() | Masuyer, G. | ||||||
資金援助 | 1件
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![]() | ![]() タイトル: Discovery of mono-ADP ribosylating toxins with high structural homology to Pseudomonas exotoxin A. 著者: Masuyer, G. / Taverner, A. / MacKay, J. / Lima Marques, A.R. / Wang, Y. / Hunter, T. / Liu, K. / Mrsny, R.J. | ||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 693.9 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 表示 | ![]() | |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 461 KB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 469.5 KB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 84.5 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 116.4 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 | ![]()
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3 | ![]()
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単位格子 |
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要素
#1: タンパク質 | 分子量: 66822.719 Da / 分子数: 3 / 変異: E556A / 由来タイプ: 組換発現 詳細: Recombinant protein expressed with a cleavable poly-histidine tag with amino acid 0 residual after TEV cleavage 由来: (組換発現) ![]() 発現宿主: ![]() ![]() #2: 化合物 | ChemComp-GOL / #3: 化合物 | ChemComp-MG / #4: 水 | ChemComp-HOH / | 研究の焦点であるリガンドがあるか | N | Has protein modification | Y | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.65 Å3/Da / 溶媒含有率: 53.52 % |
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結晶化 | 温度: 294.15 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 7 詳細: 0.2 M Magnesium chloride hexahydrate, 0.1 M HEPES pH 7.0, 20 % w/v PEG 6000 (condition C10 of the PACT premier Screen, Molecular Dimensions) |
-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K / Serial crystal experiment: N |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: DECTRIS EIGER2 XE 16M / 検出器: PIXEL / 日付: 2021年7月30日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 0.9795 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.79→104.83 Å / Num. obs: 193517 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 21.5 % / CC1/2: 0.997 / Rmerge(I) obs: 0.28 / Rpim(I) all: 0.062 / Rrim(I) all: 0.287 / Net I/σ(I): 7.5 |
反射 シェル | 解像度: 1.79→1.82 Å / 冗長度: 21.2 % / Rmerge(I) obs: 3.695 / Mean I/σ(I) obs: 0.4 / Num. unique obs: 9625 / CC1/2: 0.339 / Rpim(I) all: 0.811 / Rrim(I) all: 3.784 / % possible all: 99.7 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]()
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 34.028 Å2
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.861→104.83 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル |
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