プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.918 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.2→50 Å / Num. obs: 38651 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 5.861 % / CC1/2: 0.985 / Net I/σ(I): 5.21
反射 シェル
解像度 (Å)
Num. unique obs
CC1/2
Diffraction-ID
2.2-2.33
6219
0.352
1
2.33-2.49
5886
0.529
1
2.49-2.69
5453
0.694
1
2.69-2.95
5027
0.845
1
2.95-3.29
4536
0.934
1
3.29-3.8
4030
0.981
1
3.8-4.64
3372
0.991
1
4.64-6.53
2648
0.992
1
6.53-50
1480
0.996
1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.2→41.4 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.947 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.919 / SU B: 3.656 / SU ML: 0.101 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.07 / ESU R Free: 0.049 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25024
1972
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20195
-
-
-
obs
0.2044
36677
99.8 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK