プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.87313 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.95→30 Å / Num. obs: 24146 / % possible obs: 96.2 % / 冗長度: 2.9 % / Rmerge(I) obs: 0.043 / Net I/σ(I): 11.8
反射 シェル
解像度: 1.95→2.05 Å / 冗長度: 2.9 % / Rmerge(I) obs: 0.638 / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / Num. unique obs: 3359 / % possible all: 96.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.95→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.971 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.958 / SU B: 10.777 / SU ML: 0.129 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.146 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21651
1207
5 %
RANDOM
Rwork
0.17709
-
-
-
obs
0.17903
22932
96.16 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK