プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.75→30 Å / Num. obs: 34071 / % possible obs: 96.6 % / 冗長度: 3.1 % / Rmerge(I) obs: 0.044 / Net I/σ(I): 14.1
反射 シェル
解像度: 1.75→1.85 Å / 冗長度: 3.1 % / Rmerge(I) obs: 0.686 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / Num. unique obs: 5224 / % possible all: 96.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.75→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.942 / SU B: 6.502 / SU ML: 0.088 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.181 / ESU R Free: 0.112 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2188
1703
5 %
RANDOM
Rwork
0.18256
-
-
-
obs
0.18436
32361
96.65 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK