モノクロメーター: Si(111) DCM / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9793 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.85→46.67 Å / Num. obs: 38802 / % possible obs: 99.48 % / 冗長度: 3.4 % / Biso Wilson estimate: 26.73 Å2 / CC1/2: 0.992 / Rpim(I) all: 0.026 / Net I/σ(I): 21.1
反射 シェル
解像度: 1.85→1.916 Å / 冗長度: 3.4 % / Mean I/σ(I) obs: 2 / Num. unique obs: 3885 / CC1/2: 0.886 / Rpim(I) all: 0.21 / % possible all: 99.64
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
HKL-2000
722
データ削減
HKL-2000
722
データスケーリング
PHASER
7.1.018
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.85→46.67 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.935 / SU B: 3.304 / SU ML: 0.101 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.167 / ESU R Free: 0.146 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23862
1896
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.20704
-
-
-
obs
0.20855
36907
99.45 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK