プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54187 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3.4→35.77 Å / Num. obs: 9185 / % possible obs: 68.9 % / 冗長度: 9.6 % / Biso Wilson estimate: 83.7 Å2 / CC1/2: 0.994 / CC star: 0.999 / Rmerge(I) obs: 0.412 / Rpim(I) all: 0.14 / Rrim(I) all: 0.435 / Net I/av σ(I): 5.6 / Net I/σ(I): 4.9
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. unique obs
CC1/2
CC star
Rpim(I) all
Rrim(I) all
% possible all
4.2-35.77
9.6
0.338
5.8
7111
0.995
0.999
0.116
0.357
99.51
4.2-4.5
9.8
1.166
2.4
1312
0.67
0.896
0.393
1.232
100
3.4-4.2
9.8
1.473
1.9
2074
0.583
0.729
0.488
1.553
33.53
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0430
精密化
HKL-3000
データ収集
XDS
Jun30, 2023BUILT=20230630
データ削減
XSCALE
Jun30, 2023BUILT=20230630
データスケーリング
PHASER
2.8.3
位相決定
Coot
0.9.8.95
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 3.4→35.77 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.857 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.805 / SU B: 170.905 / SU ML: 1.034 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.864 / 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.3348
743
8.089 %
Random selection
Rwork
0.2967
8442
-
-
all
0.3
-
-
-
obs
-
9185
68.74 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.7 Å / 減衰半径: 0.7 Å / VDWプローブ半径: 0.85 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT