プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3.05→50.01 Å / Num. obs: 15658 / % possible obs: 97.68 % / 冗長度: 7.9 % / CC1/2: 0.98 / Rpim(I) all: 0.059 / Net I/σ(I): 11.3
反射 シェル
解像度: 3.05→3.129 Å / Mean I/σ(I) obs: 7.5 / Num. unique obs: 1106 / CC1/2: 0.966 / Rpim(I) all: 0.075 / % possible all: 95.28
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
BALBES
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 3.05→50.01 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.911 / SU B: 12.111 / SU ML: 0.219 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.327 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20586
852
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.13867
-
-
-
obs
0.1422
15658
97.68 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK