プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9787 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.78→50 Å / Num. obs: 235628 / % possible obs: 99.5 % / 冗長度: 6.1 % / CC1/2: 0.976 / Net I/σ(I): 34.2
反射 シェル
解像度: 1.78→1.84 Å / 冗長度: 6.3 % / Mean I/σ(I) obs: 2 / Num. unique obs: 23812 / CC1/2: 0.873 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0238
精密化
HKL-2000
データスケーリング
HKL-2000
データ削減
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.78→38.58 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.954 / SU B: 4.531 / SU ML: 0.071 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.106 / ESU R Free: 0.101 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18098
10377
5 %
RANDOM
Rwork
0.1546
-
-
-
obs
0.15591
197119
87.64 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK