プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.5→30 Å / Num. obs: 107872 / % possible obs: 97.7 % / 冗長度: 3.1 % / Rmerge(I) obs: 0.082 / Net I/σ(I): 10.9
反射 シェル
解像度: 2.5→2.6 Å / 冗長度: 2.9 % / Rmerge(I) obs: 0.667 / Mean I/σ(I) obs: 2 / Num. unique obs: 11693 / % possible all: 95.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.5→30 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.955 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.931 / SU B: 24.62 / SU ML: 0.227 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.269 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23413
5391
5 %
RANDOM
Rwork
0.18652
-
-
-
obs
0.18888
102428
97.78 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK