プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9184 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.85→41.64 Å / Num. obs: 40335 / % possible obs: 96.4 % / 冗長度: 3.5 % / Biso Wilson estimate: 19.2 Å2 / CC1/2: 0.994 / Rmerge(I) obs: 0.129 / Rrim(I) all: 0.152 / Net I/σ(I): 7.1
反射 シェル
解像度: 1.85→1.89 Å / Rmerge(I) obs: 1.295 / Mean I/σ(I) obs: 1.1 / Num. unique obs: 2553 / CC1/2: 0.376 / Rrim(I) all: 1.523 / % possible all: 99.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0267
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
MOLREP
位相決定
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.85→41.64 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.964 / SU B: 3.621 / SU ML: 0.097 / 交差検証法: FREE R-VALUE / ESU R: 0.144 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions. Last refinement cycle was performed against all reflections.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2091
2029
5 %
Random
Rwork
0.1714
40318
-
-
all
0.172
-
-
-
obs
0.1723
40318
96.312 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT