プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→63.39 Å / Num. obs: 111671 / % possible obs: 97.3 % / 冗長度: 3.3 % / Biso Wilson estimate: 15.15 Å2 / CC1/2: 0.974 / Net I/σ(I): 10.5
反射 シェル
解像度: 1.6→1.63 Å / Mean I/σ(I) obs: 1.9 / Num. unique obs: 5457 / CC1/2: 0.771
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0419
精密化
DIALS
データ削減
Aimless
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 1.6→63.31 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.964 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.951 / SU B: 3.481 / SU ML: 0.062 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.082 / ESU R Free: 0.083 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19428
5683
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.16391
-
-
-
obs
0.16548
106015
97.34 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK