プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9763 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→75.18 Å / Num. obs: 90363 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 6.9 % / CC1/2: 1 / Rrim(I) all: 0.083 / Net I/σ(I): 15
反射 シェル
解像度: 1.7→1.73 Å / 冗長度: 5.6 % / Mean I/σ(I) obs: 1.1 / Num. unique obs: 4348 / CC1/2: 0.7 / Rrim(I) all: 0.953 / % possible all: 95.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0352
精密化
DIALS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.7→75.18 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.962 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.952 / SU B: 4.635 / SU ML: 0.074 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.096 / ESU R Free: 0.095 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: U VALUES : WITH TLS ADDED HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : RESIDUAL ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21176
4537
5 %
RANDOM
Rwork
0.18286
-
-
-
obs
0.1843
85824
99.79 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK