プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.95→30 Å / Num. obs: 44947 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 8 % / Rmerge(I) obs: 0.056 / Net I/σ(I): 35.7
反射 シェル
解像度: 1.95→2.02 Å / 冗長度: 6.7 % / Rmerge(I) obs: 0.622 / Mean I/σ(I) obs: 2.54 / Num. unique obs: 4338 / % possible all: 97.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SCALA
データスケーリング
REFMAC
8.0.004
精密化
HKL-2000
データ削減
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.95→28.43 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.941 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.905 / SU B: 3.87 / SU ML: 0.111 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.191 / ESU R Free: 0.178 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24863
2368
5.8 %
RANDOM
Rwork
0.19158
-
-
-
obs
0.19489
38338
90.39 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK