プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.23→30 Å / Num. obs: 29326 / % possible obs: 99.5 % / 冗長度: 3.81 % / CC1/2: 0.997 / Rmerge(I) obs: 0.063 / Net I/σ(I): 11.03
反射 シェル
解像度: 2.23→2.37 Å / Rmerge(I) obs: 0.437 / Mean I/σ(I) obs: 2.36 / Num. unique obs: 4318 / CC1/2: 0.924 / % possible all: 98.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0411
精密化
SCALA
データスケーリング
HKL-2000
データ削減
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.23→28.3 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.926 / SU B: 10.991 / SU ML: 0.247 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.308 / ESU R Free: 0.251 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.28845
1565
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.22779
-
-
-
obs
0.23082
29326
99.63 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK