プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→30 Å / Num. obs: 28419 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 5.5 % / Rmerge(I) obs: 0.057 / Net I/σ(I): 28.99
反射 シェル
解像度: 2.3→2.38 Å / 冗長度: 5.6 % / Rmerge(I) obs: 0.582 / Mean I/σ(I) obs: 3.429 / Num. unique obs: 2768 / CC1/2: 0.969 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
8.0.004
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALA
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.3→28.28 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.942 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.91 / SU B: 7.486 / SU ML: 0.179 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.333 / ESU R Free: 0.238 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24504
1390
5 %
RANDOM
Rwork
0.19441
-
-
-
obs
0.19712
26244
97.14 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK