モノクロメーター: Cu / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.34→50 Å / Num. obs: 32736 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 13.8 % / Biso Wilson estimate: 29.35 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.175 / Rrim(I) all: 0.181 / Net I/σ(I): 14
反射 シェル
解像度: 2.34→2.38 Å / 冗長度: 6.1 % / Rmerge(I) obs: 0.737 / Mean I/σ(I) obs: 2.29 / Num. unique obs: 1629 / CC1/2: 0.76 / CC star: 0.929 / Rrim(I) all: 0.805 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0349
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.34→45.07 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.967 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.938 / SU B: 5.943 / SU ML: 0.139 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.305 / ESU R Free: 0.21 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20598
1562
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.15356
-
-
-
obs
0.15601
30951
99.38 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK