プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97918 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.54→50 Å / Num. obs: 18443 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 20.1 % / CC1/2: 0.999 / Rmerge(I) obs: 0.148 / Net I/σ(I): 13.47
反射 シェル
解像度: 2.54→2.69 Å / Rmerge(I) obs: 3.361 / Mean I/σ(I) obs: 0.7 / Num. unique obs: 2861 / CC1/2: 0.393 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0352
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 2.54→49.73 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.951 / SU B: 11.847 / SU ML: 0.222 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.343 / ESU R Free: 0.241 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22912
919
5 %
RANDOM
Rwork
0.18927
-
-
-
obs
0.19122
17524
99.97 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 1.1 Å / 減衰半径: 1.1 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK