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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 8fep | |||||||||
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タイトル | 16mer self-complementary duplex RNA with two continuous native U:U pairs | |||||||||
![]() | RNA 16mer | |||||||||
![]() | RNA / Duplexes / UU pairs | |||||||||
機能・相同性 | RNA / RNA (> 10)![]() | |||||||||
生物種 | synthetic construct (人工物) | |||||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | |||||||||
![]() | Fang, Z. / Szostak, J.W. | |||||||||
資金援助 | ![]()
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![]() | ![]() タイトル: Unusual Base Pair between Two 2-Thiouridines and Its Implication for Nonenzymatic RNA Copying. 著者: Ding, D. / Fang, Z. / Kim, S.C. / O'Flaherty, D.K. / Jia, X. / Stone, T.B. / Zhou, L. / Szostak, J.W. | |||||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 23.2 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 表示 | ![]() | |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
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-関連構造データ
関連構造データ | ![]() 8feoC ![]() 8feqC ![]() 8ferC C: 同じ文献を引用 ( |
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類似構造データ | 類似検索 - 機能・相同性 ![]() |
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 | ![]()
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単位格子 |
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Components on special symmetry positions |
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要素
#1: RNA鎖 | 分子量: 5060.023 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 合成 / 由来: (合成) synthetic construct (人工物) |
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#2: 水 | ChemComp-HOH / |
-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.09 Å3/Da / 溶媒含有率: 41.12 % |
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結晶化 | 温度: 293 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 詳細: 2 M Lithium sulfate, 3 % w/v 2-Methyl-2,4-pentanediol |
-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K / Serial crystal experiment: N |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: DECTRIS EIGER X 16M / 検出器: PIXEL / 日付: 2022年4月23日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 1.033175 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.55→21.05 Å / Num. obs: 6354 / % possible obs: 98.48 % / 冗長度: 8.8 % / CC1/2: 0.999 / Rmerge(I) obs: 0.066 / Rpim(I) all: 0.025 / Rrim(I) all: 0.07 / Net I/σ(I): 30 |
反射 シェル | 解像度: 1.55→1.58 Å / 冗長度: 9 % / Rmerge(I) obs: 0.187 / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / Num. unique obs: 310 / CC1/2: 0.994 / Rpim(I) all: 0.066 / Rrim(I) all: 0.199 / % possible all: 100 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]()
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK BULK SOLVENT | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 25.459 Å2
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.55→21.048 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル |
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