プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54178 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→42.29 Å / Num. obs: 15516 / % possible obs: 94.6 % / 冗長度: 2.4 % / CC1/2: 0.996 / Rmerge(I) obs: 0.017 / Net I/σ(I): 33.1
反射 シェル
解像度: 1.6→1.69 Å / 冗長度: 1.7 % / Rmerge(I) obs: 0.066 / Mean I/σ(I) obs: 10.2 / Num. unique obs: 1660 / CC1/2: 0.924 / % possible all: 71
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 開始モデル: in house structure 解像度: 1.602→32.007 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.95 / SU B: 1.422 / SU ML: 0.05 / 交差検証法: FREE R-VALUE / ESU R: 0.09 / ESU R Free: 0.087 / 詳細: Hydrogens have been added in their riding positions
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.1832
741
4.811 %
Rwork
0.1549
14661
-
all
0.156
-
-
obs
-
15402
93.589 %
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL PLUS MASK