The sequence is corresponding to the entry of KWMTBOMO04857 in Silkbase, or the entry of ...The sequence is corresponding to the entry of KWMTBOMO04857 in Silkbase, or the entry of BMSK0004751.1 in the SilkDB 3.0. It is consist with the partial sequence of XP_037868953.1 (NCBI number, 16-282aa).
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.95→86.24 Å / Num. obs: 8562 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 6.7 % / Rmerge(I) obs: 0.048 / Rrim(I) all: 0.052 / Net I/σ(I): 30.66
反射 シェル
解像度: 2.95→3.06 Å / Rmerge(I) obs: 0.66 / Mean I/σ(I) obs: 2.3 / Num. unique obs: 506 / Rrim(I) all: 0.711 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.95→86.24 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.888 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.434 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2812
446
5.2 %
RANDOM
Rwork
0.2355
-
-
-
obs
0.238
8109
99.64 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK