プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9794 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→50 Å / Num. obs: 57616 / % possible obs: 99.5 % / 冗長度: 6 % / Net I/σ(I): 27.9
反射 シェル
解像度: 1.8→1.83 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0232
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
MxDC
データ収集
精密化
解像度: 1.8→39.75 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.958 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.932 / SU B: 3.019 / SU ML: 0.093 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.152 / ESU R Free: 0.137 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22594
487
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18753
-
-
-
obs
0.18939
9045
99.5 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK