プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.7→47.35 Å / Num. obs: 55515 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 3.8 % / CC1/2: 0.992 / Net I/σ(I): 10.5
反射 シェル
解像度: 2.7→2.78 Å / 冗長度: 3.8 % / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / Num. unique obs: 4532 / CC1/2: 0.835 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0232
精密化
XDS
データ削減
pointless
データスケーリング
Aimless
データスケーリング
MOLREP
位相決定
Coot
モデル構築
MolProbity
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.7→45.91 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.926 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.865 / SU B: 36.195 / SU ML: 0.325 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.398 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.28173
2728
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.21339
-
-
-
obs
0.21667
52768
99.73 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK