プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.01→8.99 Å / Num. all: 124745 / Num. obs: 18274 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 6.82 % / Rrim(I) all: 0.137 / Net I/σ(I): 13.4
反射 シェル
解像度: 2.01→2.06 Å / Rrim(I) all: 0.965
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0189
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.01→8.98 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.927 / SU B: 4.773 / SU ML: 0.13 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.177 / ESU R Free: 0.172 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23489
862
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.16886
-
-
-
obs
0.1719
17217
98.64 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK