プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.95372 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.36→48.87 Å / Num. obs: 152900 / % possible obs: 99.97 % / 冗長度: 7.2 % / Net I/σ(I): 7
反射 シェル
解像度: 2.36→2.44 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0230
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.36→48.92 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.946 / SU B: 10.755 / SU ML: 0.224 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.325 / ESU R Free: 0.225 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23236
7570
5 %
RANDOM
Rwork
0.19823
-
-
-
obs
0.19992
145327
99.98 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1 Å / 溶媒モデル: MASK