プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.1→46.88 Å / Num. obs: 200183 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 18.8 % / Net I/σ(I): 16.39
反射 シェル
解像度: 1.1→1.16 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
PHENIX
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 1.1→46.88 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.981 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.977 / SU B: 0.457 / SU ML: 0.01 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.018 / ESU R Free: 0.018 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.12089
10011
5 %
RANDOM
Rwork
0.1076
-
-
-
obs
0.10827
190172
99.93 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK