プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.47→50 Å / Num. obs: 18539 / % possible obs: 99.1 % / 冗長度: 11.6 % / Net I/σ(I): 21.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 2.48→49.29 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.941 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.933 / SU B: 14.395 / SU ML: 0.274 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.483 / ESU R Free: 0.311 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.29439
962
5.22 %
RANDOM
Rwork
0.24465
-
-
-
obs
0.24518
18414
98.02 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK